Polvere per lappatura all’ossido di alluminio placcato
La polvere per lappatura dell’ossido di alluminio placcato è costituita da polvere di allumina industriale di alta qualità come materia prima e lavorata mediante uno speciale processo di produzione. La forma del cristallo della polvere lucidante di allumina prodotta è esagonale piatta come una forma tabulare, quindi è chiamata allumina piastrinica o allumina tabulare.
La purezza dell’allumina dell’allumina della piastra è superiore al 99% e presenta le caratteristiche di resistenza al calore, resistenza alla corrosione da acidi e alcali ed elevata durezza. Diversamente dalle tradizionali particelle sferiche abrasive, la superficie inferiore dell’allumina piatta è piatta e le particelle si adattano alla superficie del pezzo durante la molatura, il che produce un effetto di molatura scorrevole, che evita che gli angoli acuti delle particelle graffino la superficie di il pezzo. D’altra parte, l’allumina della piastra nella macinazione, la pressione di macinazione è distribuita uniformemente sulla superficie delle particelle, le particelle non si rompono facilmente e la resistenza all’usura è migliorata, migliorando così l’efficienza di macinazione e la finitura superficiale.
Per i materiali semiconduttori come i wafer di silicio semiconduttore, l’applicazione di lastre di ossido di alluminio può ridurre i tempi di rettifica, migliorare notevolmente l’efficienza di rettifica, ridurre la perdita della rettificatrice, risparmiare manodopera e costi di rettifica e aumentare la velocità di rettifica. La qualità è vicina a noti marchi stranieri.
L’efficienza del lavoro della molatura del bulbo di vetro del cinescopio è aumentata di 3-5 volte;
Il tasso di prodotto qualificato è aumentato del 10-15% e il tasso di prodotto qualificato dei wafer semiconduttori raggiunge oltre il 99%;
Il consumo di macinazione è inferiore del 40-40% rispetto alla normale polvere per lucidatura di allumina;
Polvere per lappatura all’ossido di alluminio placcato Composizione chimica
| Chimico | Valore di garanzia | Valore tipico |
| Al2O3 | ≥99,0% | 99,36% |
| SiO2 | <0,2% | 0,017% |
| Fe2O3 | <0,1% | 0,03% |
| Na2O | <0,6% | 0,35% |
Polvere per lappatura all’ossido di alluminio placcato Proprietà fisiche
| Materiale | α-Al2O3 |
| Colore | Bianco |
| Peso specifico | ≥3.9g/cm3 |
| Durezza di Mohs | 9.0 |
Polvere per lappatura in ossido di alluminio placcato Misure disponibili
| Tipo | D3(um) | D50 (uno) | D94（um） |
| HXTA45 | 50,5-56,2 | 33-38,5 | 20.7-24.5 |
| HXTA40 | 39-44,6 | 27.7-31.7 | 18-20 |
| HXTA35 | 35,4-39,8 | 23.8-27.2 | 15-17 |
| HXTA30 | 28.1-32.3 | 19.2-22.3 | 13.4-15.6 |
| HXTA25 | 24.4-28.2 | 16.1-18.7 | 9.6-11.2 |
| HXTA20 | 20.9-24.1 | 13.1-15.3 | 8.2-9.8 |
| HXTA15 | 14.8-17.2 | 9.4-11 | 5,8-6,8 |
| HXTA12 | 11.8-13.8 | 7.6-8.8 | 4.5-5.3 |
| HXTA09 | 8.9-10.5 | 5.9-6.9 | 3.3-3.9 |
| HXTA05 | 6.6-7.8 | 4.3-5.1 | 2.55-3.05 |
| HXTA03 | 4.8-5.6 | 2.8-3.4 | 1.5-2.1 |
Polvere per lappatura all’ossido di alluminio placcato Applicazioni del prodotto
1) Industria elettronica: macinazione e lucidatura di wafer di silicio monocristallino semiconduttore, cristalli di quarzo, semiconduttori composti (gallio cristallino, fosfatazione nano).
2) Industria del vetro: molatura e lavorazione di cristallo, vetro al quarzo, schermo del guscio di vetro del cinescopio, vetro ottico, substrato di vetro del display a cristalli liquidi (LCD) e cristallo di quarzo.
3) Industria dei rivestimenti: rivestimenti e riempitivi speciali per la spruzzatura al plasma.
4) Industria della lavorazione dei metalli e della ceramica: materiali ceramici di precisione, materie prime ceramiche sinterizzate, rivestimenti ad alta temperatura di alta qualità, ecc.
Polvere per lappatura di ossido di alluminio placcato Packge:
20kg/cartone, 1MT/Pallet
Reviews
There are no reviews yet.