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Polvere di microsfere di vetro da 60-65 micron per resina epossidica

La polvere di microsfere di vetro (chiamata anche microsfere cave di vetro) è una polvere bianca e scorrevole composta da particelle cave e sferiche di vetro borosilicato. La granulometria 60-65 μm è stata progettata come riempitivo funzionale leggero per sistemi di resina epossidica, bilanciando bassa densità, buona resistenza e facile lavorabilità.

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Polvere di microsfere di vetro da 60-65 micron per resina epossidica

 

La polvere di microsfere di vetro (chiamata anche microsfere cave di vetro) è una polvere bianca e scorrevole composta da particelle cave e sferiche di vetro borosilicato. La granulometria 60-65 μm è stata progettata come riempitivo funzionale leggero per sistemi di resina epossidica, bilanciando bassa densità, buona resistenza e facile lavorabilità.

Caratteristiche dei  sistemi epossidici
  1. Ultraleggero ed economico.

    La densità è pari a 1/5–1/10 di quella della resina epossidica; l’aggiunta del 10–30% in peso riduce il peso del pezzo del 30–50% e diminuisce il consumo di resina epossidica, riducendo il costo complessivo del materiale.
  2. Bassa viscosità ed eccellente fluidità. La perfetta forma sferica conferisce una minore viscosità alle miscele epossidiche, migliorando la fluidità e la riempibilità per colate, incapsulamenti e laminazione; consente un maggiore carico di riempitivo senza fragilità.
  3. Stabilità dimensionale e basso ritiro. Riduce il ritiro da polimerizzazione e la dilatazione termica dell’epossidica, minimizzando deformazioni, crepe e tensioni interne nei pezzi polimerizzati; ideale per componenti di precisione.
  4. Isolamento termico ed elettrico. La bassa conduttività termica (0,03–0,05 W/m·K) migliora la resistenza al calore; la bassa costante dielettrica e l’elevata resistività volumetrica lo rendono adatto per l’incapsulamento e l’isolamento di componenti elettronici.
  5. Ottime prestazioni meccaniche. Migliora la rigidità, la durezza e la resistenza all’abrasione dei compositi epossidici; riduce la fragilità e migliora la resistenza all’impatto rispetto all’epossidica non caricata.
  6. Inerzia chimica e durata. Resistente all’acqua, agli acidi, agli alcali e alla maggior parte dei solventi organici; non assorbente, non infiammabile e non tossico; compatibile con tutti gli indurenti epossidici standard.
Indice tecnico della polvere di microsfere di vetro da 60-65 micron per resina epossidica CL38:
NO. Elementi di prova Unità Standard
1 Aspetto Bianco e buona fluidità
2 Umidità % ≤0,50
3 Galleggiamento % ≥95
4 Densità apparente g/ cm³ 0,19~0,22
5 Dimensione delle particelle µm D 90 ≤65
6 Peso specifico g/ cm³ 0,37~0,39
7 Forza di schiacciamento % 5500 psi

 

Specifiche:
Specifiche Densità reale (g/cm³) Densità apparente (g/cm³) Resistenza alla compressione (MPa/Psi) D50(uno) D90(uno)
CL15 0,13-0,17 0,08-0,09 4/500 65 120
CL20 0,20-0,22 0,10-0,12 4/500 65 110
CL25 0,24-0,27 0,13-0,15 5/750 65 100
CL30 0,29-0,32 0,15-0,18 10/1500 55 85
CL32 0,31-0,33 0,17-0,19 14/2000 45 80
CL35 0,33-0,37 0,18-0,21 21/3000 40 70
CL38 0,37-0,39 0,19-0,22 38/5500 40 65
CL40 0,39-0,42 0,19-0,23 28/4000 40 70
CL42 0,41-0,44 0,21-0,24 55/8000 40 60
CL46 0,44-0,48 0,23-0,26 41/6000 40 70
CL50 0,48-0,52 0,25-0,27 55/8000 40 60
CL55 0,53-0,55 0,27-0,29 68/10000 40 60
CL60 0,58-0,62 0,29-0,34 83/12000 40 65
CL60S 0,58-0,63 0,30-0,34 125/18000 35 55
CM10 1,4-1,6 0,45-0,50 193/28000 5 10
CM15 1.2-1.3 0,40-0,45 124/18000 7 15
CM20 1,05-1,15 0,39-0,44 124/18000 9 20
CM30 0,9-1,0 0,35-0,4 83/12000 14 30
CS20 0,18-0,22 0,10-0,12 7/1000 60 90
CS22 0,20-0,24 0,11-0,13 8/1200 45 70
CS28 0,27-0,30 0,15-0,17 28/4000 45 65
CS38 0,36-0,40 0,19-0,22 38/5500 30 50
CS42 0,40-0,44 0,21-0,24 55/8000 25 40
CS46 0,44-0,50 0,22-0,25 110/16000 20 30
CS60 0,58-0,62 0,29-0,33 193/28000 16 25
CS65 0,63-0,67 0,30-0,33 207/30000 13 20
CS70 0,75-0,80 0,33-0,35 207/30000 10 15

 

Applicazioni:

 

  • Fusione e stampaggio di resina epossidica: stampi leggeri, modelli master, maschere e attrezzature (riducono il peso e migliorano la precisione dimensionale).
  • Incapsulamento e sigillatura di componenti elettronici: incapsulamento a bassa densità e a basso ritiro per sensori, circuiti e moduli batteria (fornisce isolamento, gestione termica e smorzamento delle vibrazioni).
  • Materiali compositi e laminati: laminati epossidici leggeri per componenti navali, aerospaziali e automobilistici (migliorano la galleggiabilità e riducono il peso strutturale).
  • Adesivi e sigillanti: adesivi epossidici a bassa densità per l’incollaggio di materiali diversi; sigillanti riempitivi a basso ritiro.
  • Materiali da costruzione e decorativi: pavimenti in resina epossidica, terrazzo e pietra artificiale (riduce il peso, migliora la resistenza all’usura ed esalta la texture).

 

Ultime notizie:

Proprietà e applicazioni delle microsfere di vetro cave.

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